PECVD系统主要由供气系统、加热系统、射频电源、真空系统等组成；
1）加热系统可以分单温区、双温区、三温区、多温区等；
2）真空系统可分为低真空和高真空，Zui高极限真空可以达到10-4Pa（分子泵组）；
3）射频电源借助于辉光放电等方法产生等离子体，辉光放电等离子体中；
4）供气系统是流量调节用户可选择质量流量计或浮子流量计，混气路数用户可选2路、3路、4路、5路、6路等相混合（主要根据客户工艺要求定制）；
PECVD是借助于光放电等方法产生等离子体，光放电等离子体中：电子密度高109-1012cm3电子气体温度比普通气体分子温度高出10-100倍，使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应，从而实现薄膜材料生长的一种新的制备技术。通过反应气态放电，有效地利用了非平衡等离子体的反应特征，从根本上改变了反应体系的能量供给方式低温热等离子体化学气相沉积法具有气相法的所有优点，工艺流程简单。
炉底(可选)配安装一对滑轨，可用手滑动（主要适用于1200℃以下加装滑轨）。可以达到快速升降温的目的，为取得Zui快加热速率，可以预先加热炉子到设定的温度，然后移动炉子到样品区。可在样品加热后移动炉子到另一端，实现快速降温功能。是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火用的理想产品。
